高纯水的参数及应用范围

高纯水的参数及应用范围：高纯水（High purity water）是指25℃时电导率小于0.1 μs/cm和残余含盐量小于0.3 mg/L，并去除了非电介质的微量**、微生物、微粒等杂质的水。制取方法有蒸馏、RO膜分离、离子交换等。主要用于电子和微电子工业，也用于食品、造纸、医药、电子、核工业等行业。

水的纯度通常是以水中所含杂质的相对含量来表示的。但当水的纯度达一定水平后，水中的杂质总量已很少了，个别杂质的浓度更低，有些已不易检出。在这种情况下，常用水的电导率（或电阻率）来表示水的纯度。因为纯水中H+和OH-离子的浓度都是10-7 mol/L，其电导率很低，几乎不导电。而当水中含有某些杂质（如可溶性盐）时，由于杂质离子能导电，使其电导率迅速上升。因此水的电导率是与其纯度密切相关的。

泉特QTCJ高纯水制取工艺：源水→机械过滤→活性炭过滤器→软水器→二级反渗透器→纯水箱→EDI精除盐→离子交换柱→高纯水箱→供水泵→紫外灯**器→精密过滤器→用水点

高纯水的制备流程由预处理、脱盐和后处理三部分组成，根据用水的要求，选择合适的工艺组合。

（1）预处理。主要是除去悬浮物、有机物，常用的方法有砂滤、膜过滤、活性炭吸附等。

（2）脱盐。主要是除去各种盐类，常用的方法有电渗析、反渗透、离子交换等。

（3）后处理。主要是除去**、微颗粒，常用的方法有紫外**、臭氧**、超过滤、微孔过滤等。

我国高纯水的国家标准将电子级水分为五个级别，相应标准为EW-I、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-IV、EW-V，其中EW-I为***，它所要求的杂质控制指标如下：电阻率在90%时间内达到18 MQ·cm（25℃），其余时间*小值为17 MQ·cm（25℃），大于0.5 μm的微粒数少于100个/mL，**个数*大值1个/mL，总有机碳含量不大于50 μg/L，二氧化硅总含量不大于2 μg/L，氯、钾、铝、铁、钙的含量均不大于0.5 μg/L，而铜、锌含量不大于0.2 μg/L。

泉特高纯水主要应用在电子和微电子工业上，也用于食品、造纸、医药等行业。随着半导体器件由过去的单电路发展到集成电路，对水质的要求就越来越高。在半导体切片和研磨过程中，须用高纯水进行清洗，即使只有微粒尘埃杂质，也会影响产品质量。