EDI高纯水设备调试与维护
EDI即Electrodeionization的缩写，它是一种将电渗析技术和离子交换技术结合在一起的脱盐新工艺。
1986年商用EDI出现于制药行业
★二十世纪九十年代大型商用EDI开始在化学和半导体行业被使用
★新一代EDI设备诞生于1997年
★进入2000年以来，在北美及欧洲EDI已占据了超纯水设备相当部分的市场
★自2005年,EDI在国内得到越来越广泛的认可和应用。
水处理工业的**
连续电除盐装置和传统离子交换相比，EDI 所具有的优点：
☆无再生污水及污水处理设施
☆节省反冲和清洗用水，高产率生产超纯水
☆EDI 再生时不需要停机
☆提供稳定的水质
☆耗能低
☆操作管理方便，劳动强度小
☆安装简单，运行、维护费用低廉
☆浓水可做软化水，提高了水的利用率
EDI 组件结构
Ø淡水室
Ø浓水室
Ø极水室
Ø绝缘板
Ø电源及水路连接
EDI高纯水设备进水条件
以下是保证EDI正常运行的*低条件，为了使系统运行结果更佳，设计时应适当提高标准。
给水：RO纯水，电导率为1-40μS/cm（以25度时NaCl溶液计）。一般应经过单级反渗透+软化或者双级反渗透处理。
TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：<25ppm.
pH ：6.0～9.0（*佳电阻率性能对应的pH范围为 7.0～9.0 ）。
温度： 5-35°C（41-95°F）。
进水压力：*大为4bar（60psi）。
出水压力：浓水和极水的出口压力必须低于产品水的出口压力。
硬度（以CaCO3计）：进水硬度<0.1 ppm，回收率是95%；进水硬度0.1-0.5 ppm，回收率是90%；进水硬度0.5-0.75 ppm，回收率是80-85%；当入水硬度为0.75-1ppm时，需要得到厂家认可 。
有机物：*大为0.5 ppm TOC，建议值为零。
氧化剂：*大为0.05 ppm(Cl2)，0.02 ppm(O3)。
变价金属：Fe*大为0.01 ppm，Mn*大为0.01 ppm。
二氧化硅 ：小于0.5 ppm。
二氧化碳的总量：二氧化碳含量将明显影响产品水电阻率。如果CO2 大于10 ppm， EDI系统不能制备高纯度的产水。可以通过调节反渗透进水 pH 值或使用脱气装置来降低CO2 量。
EDI高纯水设备调试
Ü准备工作
•如果采用了脱气、RO+软化工艺，必须做好着以下两部分的调试工作
Ü准备工作
脱气注意事项：
如果采用脱气膜+吹气方式时，必须对空气进行0.22um**过滤
Ü准备工作
当采用RO+软化+EDI的方式时，必须对树脂的进行清洗处理，方法如下：
水洗，3%HCl浸泡24小时
水洗，1%NaOH+5%NaCl浸泡24小时
水洗，3%HCl浸泡24小时
正常再生
注意：再生时盐的铁锰含量必须低于5ppm
Ü开机准备
•仔细阅读操作手则。
•检查系统管路，保证连接正确、完毕。
•检查电路系统，保证连接正确、完毕。
•检查仪表系统，保证连接正确、完毕
•调试给水泵及浓水泵。
•逐个调试整流单元
•校准、设置仪表
•调试自动控制系统及各流量、压力开关
•上述工作完成后，用水冲洗系统管路，准备系统开机。
注意：上述所有过程膜组件都必须处于断电状态
Ü系统启动
1、开EDI系统控制电源。
2、启EDI给水泵
3、察EDI入水电导率，超过设定值时，自动排放，如合格，入水电阀打开，排水电阀关闭，如不符合以上描述，需检查电导仪，并重新设置
4、慢打开浓水补水阀，待水充满浓水室后，打开浓水排气阀，当有大量水连续排除时，关闭排气阀
5、启浓水循环泵
6、纯水、浓水、极水管道实行脉冲供水以进一步从EDI系统中排出空气
7、节纯水流量、浓水流量、浓水排放流量、极水流量达到设计范围
8、EDI电源打开,使EDI尽快供电.
9、节纯水入口压力比浓水入口压力高0.3-0.5kg/cm2，纯水出口压力比浓水出口压力高0.5-0.7 kg/cm2.避免浓差渗透影响产水水质.
10、节浓水电导率在300us/cm左右.
11、节电流至规定值,且设置至电流模式.
12、运行记录表,做详细记录
Ü系统关机
1、EDI模块电源“电流调节”至“0”,然后关断
2、断EDI给水泵、浓水循环泵电源
3、闭EDI系统控制电源
EDI高纯水设备停机维护
Ü短期停机
1、须关断电源供电
2、须关断给水泵、浓水循环泵、加盐泵
3、水阀、出水阀必须关闭
4、组件不脱水干燥
Ü短期停机
1、须关断电源供电
2、须关断给水泵、浓水循环泵、加盐泵
3、水阀、出水阀必须关闭
4、组件不脱水干燥
膜块维护
Ü初次使用
组出厂前,螺母已扭好,运行之前如果发现个别螺母有松动,应将所有螺母再次调整到20 ft-1bs,*大不超过25 ft-1bs.
Ü长期维护
定期检查螺拴扭矩,必要时作调整
系统清洗
Ü浓水侧结垢清洗
方法1 5%柠檬酸溶液
方法2 3%HCL溶液
Ü淡水侧结垢清洗
方法 1%NaOH+5%NaCl溶液
Ü**清洗
方法 1% 过氧乙酸溶液
EDI高纯水设备调试与维护：故障分析
Ü产水水质差
1. 原因：浓水出入口压力与纯水出入口压力接近处理方法，节至标准要求2. 现象：电压较高而电流很低
原因:正负极接反
处理方法:切断电源,核对接线
3. 现象:产水水质差,而入水电导率显示较低
原因:检测入水,CO2是常见影响因素
处理方法：脱气
4. 原因：电流较低
处理方法：调节至标准要求
5.现象：电流不变，电压较运行初期升高
原因: 膜组件污染
处理方法:清洗
6.原因:仪表故障
处理方法：检修仪表
极水流量低
1. 原因：入口压力较低
处理方法：调节至标准要求
2. 现象：投运初期，流量过低
原因: 碎屑堵塞
处理方法:反向冲洗
3.原因:膜组件发生污染
处理方法：清洗
Ü浓水流量低
1、原因：入口压力较低
处理方法：调节至标准要求
2、现象：投运初期，流量过低
原因: 碎屑堵塞
处理方法:反向冲洗
3、原因:膜组件发生污染
处理方法：清洗
